Американские санкции, направленные против Huawei и SMIC, своей целью имеют прекращение доступа китайских компаний к новейшим литографическим технологиям. Попытки китайских производителей перейти на импортозамещение увенчаются успехом к концу следующего года, но ограничатся лишь оборудованием, пригодным для 28-нм технологии.
В Китае с 2002 г. работает компания Shanghai Micro Electronic Equipment (SMEE), недавно стало известно, что она представит свой литографический сканер второго поколения к четвертому кварталу 2021 г. Это оборудование будет использовать погружную литографию с глубоким ультрафиолетовым излучением с длиной волны 193 нм и лазером на основе фторида аргона. Западные компании типа TSMC и Intel такое оборудование начали использовать еще в 2004 г., поэтому китайские сканеры нельзя будет назвать передовыми в мировом масштабе, но они хотя бы позволят китайцам к 2023 г. наладить выпуск 20-нм продукции без использования технологий американского происхождения.
Полностью избавиться от импортируемых комплектующих SMEE не сможет, но она хотя бы ограничится компонентами японского производства, на которые не будут распространяться американские санкции. Китайским клиентам SMEE потребуется некоторое время, чтобы адаптировать свои техпроцессы к использованию данного оборудования, поэтому нельзя утверждать, что литографические сканеры нового поколения данной марки сразу же будут взяты на вооружение. Вызывает беспокойство и высокая степень зависимости китайских разработчиков от программного обеспечения американского происхождения, которому пока нет особых альтернатив. На создание конкурентоспособных систем проектирования альтернативного происхождения тоже уйдет какое-то время. (3dnews/Машиностроение Украины и мира)