Мировой рынок: полупроводниковое производство с применением EUV-литографии станет дешевле, – прогноз
Одна из причин отказа Intel от использования сканеров EUV для производства процессоров кроется в высоком уровне брака. Брак возникает от загрязнения фотошаблонов, а избежать этого можно только с помощью специальных защитных пленок. Проблема в том, что до сих пор пленок с необходимыми рабочими характеристиками для излучения EUV не было. Но с этого года все должно…