США: IBM объявила о создании 5-нанометрового чипа
Американская компания IBM совместно с Global Foundries и корейской Samsung разработала самый тонкий на сегодняшний день техпроцесс изготовления полупроводниковых чипов, при котором разрешающая способность литографического оборудования составляет пять нанометров. Об этом сообщает Science Alert. Издание отмечает, что такое решение позволило вдвое сократить размер транзисторных затворов на современных чипах, а именно – от 10 до 5…
Подробнее